세계지적재산권기구가 21일 발표한 보고서에 따르면 2017년 중국은 ‘특허협력조약’ 틀 안에서 미국의 뒤를 이어 두 번째로 큰 국제 특허 신청 원천국이 됐다. 중국 화웨이(華爲)와 중싱(中興)은 국제 특허를 가장 많이 신청한 2개 회사로 이름을 올렸다.

보고서는 2017년 전 세계 각국과 기업 신청자들이 세계지적재산권기구 서비스를 이용한 상황을 분석했다. 국제 특허 신청 소속 국가를 보면 2017년 특허 신청을 가장 많이 한 나라는 미국으로 5.66만 건을 기록했다. 그 뒤를 중국(4.89만 건), 일본(4.82만 건)이 이었다.

그 중, 중국은 유일하게 신청량 연성장률이 두 자리 수를 기록한 국가로 꼽혔다. 2003년부터 중국은 매년 10% 이상의 성장률을 기록했다. 보고서는 현재 발전 추세대로라면 중국은 3년 안에 미국을 제치고 가장 큰 국제 특허 신청 원천국이 될 가능성이 있다고 전망했다.